電子半導體超純水系統(tǒng)是一種用于生產(chǎn)高純度水的設備，專為滿足電子半導體行業(yè)對水質(zhì)的高要求而設計。其通過多級純化工藝，將自來水或其他水源中的雜質(zhì)去除，達到超純水的標準。這些雜質(zhì)包括離子、有機物、微生物、顆粒物等，以確保水質(zhì)滿足電子半導體制造過程中的嚴格要求。廣泛應用于半導體制造、集成電路制造、平板顯示器制造、光電子器件制造等領域。在半導體制造過程中，超純水用于清洗、蝕刻、摻雜等工藝步驟，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。
1、檢查與確認
設備外觀檢查：仔細查看系統(tǒng)各部件外觀是否完好，有無泄漏、損壞跡象，包括管道連接處、閥門、儀表等部位。
電源與氣源檢查：確保電源供應穩(wěn)定，電壓符合設備要求；對于需要氣源的設備，檢查氣源壓力和供氣是否正常。
水源檢查：確認原水水質(zhì)符合系統(tǒng)進水要求，如水溫、pH值、濁度等指標應在規(guī)定范圍內(nèi)。
2、預處理設置
過濾器檢查：檢查預處理中的過濾器（如砂濾器、活性炭過濾器等）是否安裝正確，濾料是否需要更換。如果濾料長時間未更換或已達到使用壽命，應及時更換，以保證過濾效果。
加藥系統(tǒng)校準：若預處理中有加藥裝置（如絮凝劑加藥裝置），需根據(jù)原水水質(zhì)情況校準加藥量，確保混凝沉淀效果良好。
3、系統(tǒng)參數(shù)設定
溫度設定：根據(jù)半導體生產(chǎn)工藝需求，在控制系統(tǒng)中設定超純水的供水溫度。一般來說，不同的工藝環(huán)節(jié)對水溫有不同要求，例如光刻工藝可能需要將水溫控制在20-25℃。
壓力設定：依據(jù)后續(xù)工藝設備的用水壓力要求，設置系統(tǒng)出水壓力。通常，蝕刻工藝可能要求的壓力在2-4bar之間，而清洗工藝可能要求1.5-3bar的壓力。
流量設定：根據(jù)各用水點的用水量需求，合理設置系統(tǒng)的供水流量?？梢酝ㄟ^流量計或控制系統(tǒng)中的流量調(diào)節(jié)功能進行設定。
